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Wafers LNOI de 4 pulgadas y 6 pulgadas para comunicación óptica compacta y de alto rendimiento
Datos del producto:
| Lugar de origen: | China. |
| Nombre de la marca: | CQT |
| Certificación: | ISO:9001, ISO:14001 |
| Número de modelo: | Oblea de LNOI |
Pago y Envío Términos:
| Cantidad de orden mínima: | 10 piezas |
|---|---|
| Precio: | $2000/pc |
| Detalles de empaquetado: | El paquete del tarro del casete, vacío selló |
| Tiempo de entrega: | 1 a 4 semanas |
| Condiciones de pago: | T/T |
| Capacidad de la fuente: | 50000 PC/mes |
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Información detallada |
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| Producto: | LiNbO3 en aislador | Diámetro: | 4 pulgadas, 6 pulgadas |
|---|---|---|---|
| Capa superior: | Niobato de litio | Grueso superior: | 300~600nm |
| Insolación: | Óxido termal SiO2 | Grueso de la insolación: | 2000±15nm; 3000±50nm; 4700±100nm |
| la capa de soporte: | Si, sílice fundido | Aplicación: | Guías de onda ópticas y Microwaveguides |
| Resaltar: | Wafers de 6 pulgadas de LNOI,Wafers LNOI de comunicación óptica de alto rendimiento,Wafers LNOI compactos |
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Descripción de producto
4 pulgadas 6- Un centímetroLas obleas LNOI son la opción perfecta para comunicaciones ópticas compactas y de alto rendimiento
- ¿ Qué?Revolucionar la fotónica con las obleas LNOI de baja pérdida- ¿ Qué?
- ¿ Qué?Plataforma de niobato de litio en aislante de próxima generación (LNOI)- ¿ Qué?
Desbloquee un rendimiento sin precedentes en fotónica integrada con nuestras obeliscas LNOI de vanguardia, diseñadas para pérdidas ópticas ultrabajas y rugosidad de superficie subnanométrica.Combinación de películas finas estequiométricas de LiNbO3 con capas enterradas de SiO2 oxidadas térmicamenteNuestras obleas se entregan.> 30 veces mayor eficiencia no linealLa tecnología de la tecnología CMOS es una herramienta que permite la fabricación de productos de alta calidad, con un rendimiento óptico superior al de los cristales a granel convencionales.
Ventajas clave
✓ Rendimiento EO innovador: alcanzar un ancho de banda de modulación >100 GHz con r33 >30 pm/V, ideal para transceptores coherentes 800G/1.6T.
✓ Precisión de preparación cuántica: polinización periódica personalizada (PPLN) con error de dominio <5 nm para la generación de fotones enredados.
✓ Diseño resistente a la energía: soporta una intensidad óptica > 10 MW/cm2 (certificado Telcordia GR-468).
Aplicaciones
▷ Moduladores de EO ultracompactos 5G/6G
▷ Circuitos fotónicos topológicos y computación óptica
▷ Conversores de frecuencia cuántica (banda C/L a banda de telecomunicaciones)
▷ Fotodetectores LiDAR de alta sensibilidad
Especificaciones técnicas
• Tamaño de la oblea: 100/150 mm de diámetro (2" a 6" personalizables)
• Capa LiNbO3: corte en X/Z, grosor 300±5 nm (estándar)
• Óxido enterrado: 1-3 μm SiO2, tensión de descomposición > 200 V/μm
• Substrato: Si de alta resistividad (> 5 kΩ·cm)
| Oferta de LNOI | |||
| Estructura | LN / SiO2- Sí, es cierto. | TLC / TLC | < 1,5 μm (5¿Qué quieres decir?5 mm2) / 95% |
| Diámetro | F100 ± 0,2 mm | Exclusión de borde | 5 mm |
| El grosor | 500 ± 20 μm | - ¿ Por qué? | Dentro de 50 μm |
| Duración plana primaria | 47.5 ± 2 mm 57.5 ± 2 mm |
Recorte de bordes | 2 ± 0,5 mm |
| En el caso de las plaquetas | Tipo R | Medio ambiente | Rohs 2.0 |
| Capa LN superior | |||
| espesor medio | 400/600±10 nm | Uniformidad | Se aplican las siguientes medidas: |
| Indice de refracción | No > 2.2800, ne < 2,2100 @ 633 nm | Orientación | Eje X ± 0,3° |
| Grado | Optos | La superficie Ra | < 0,5 nm |
| Los defectos | > 1 mm Ninguno; ¿Qué quieres decir?1 mm Dentro de un total de 300 |
Delaminación | No hay |
| El rasguño | > 1 cm Ninguno; ¿Qué quieres decir?1 cm Dentro de 3 |
Piso primario | Perpendicular al eje +Y ± 1° |
| El aislamiento SiO2Capa | |||
| espesor medio | Se aplicarán las siguientes medidas: | Uniformidad | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| El método Fab. | Óxido térmico | Indice de refracción | 1.45-1.47 @ 633 nm |
| Substrato | |||
| El material | Sí, sí. | Orientación | Se aplicarán las siguientes medidas: |
| Orientación plana primaria | Se aplicarán las siguientes medidas: | Resistencia | > 10 kΩ·cm |
| Contaminación en el fondo | No hay mancha visible | En la parte posterior | El grabado |
