• Litografía, grabado, recubrimiento y unión para obleas piezoeléctricas personalizadas
Litografía, grabado, recubrimiento y unión para obleas piezoeléctricas personalizadas

Litografía, grabado, recubrimiento y unión para obleas piezoeléctricas personalizadas

Datos del producto:

Place of Origin: China
Nombre de la marca: CQTGROUP
Certificación: ISO:9001, ISO:14001
Model Number: Chip Foundry Services

Pago y Envío Términos:

Minimum Order Quantity: 1 pcs
Precio: Negociable
Packaging Details: Cassette/ Jar package, vaccum sealed
Delivery Time: 1-4 weeks
Payment Terms: T/T
Supply Ability: 10000 pcs/Month
Mejor precio Contacto

Información detallada

Product: Chip Foundry Services wafer materials: LiNbO₃,LiTaO₃,Crystal Quartz,Glass,Sapphire etc.
Type of service: Lithography,Etching,Coating, Bonding Lithography: EBL Proximity Lithograph oStepper Lithography
Etching: IBE,DRIE,RIE Bonding:: Anodic,Eutectic,Adhesive,Wire Bonding

Descripción de producto

Estado de la Litografía de la Arte, grabado, recubrimiento y unión para obleas piezoeléctricas personalizadas

 

   

Nos especializamos en proporcionar servicios integrales de fundición de chips, atendiendo a clientes que requieren procesamiento y fabricación de obleas de alta calidad.,Nuestra amplia gama de obleas incluye:Niobato de litio (LiNbO)),Tantalato de litio (LiTaO)),Cuarzo de cristal único,Vidrio de sílice fundido,Vidrio de borosilicato (BF33),Vidrio de soda y cal,Oferta de silicio, yEl safir, garantizando la versatilidad para diversas aplicaciones.

 

Nuestro historial comprobado incluye proyectos exitosos como:Transductores interdigitales de onda acústica de superficie (SAW),Transductores de anillo de niobato de litio,Chips microfluídicos, y diversosDiseños MEMS.

Capacidades avanzadas de procesamiento

  • Litografía:
    • Litografía por haz de electrones (EBL)
    • Litografía de proximidad
    • Litografía de paso a paso
  • Estampación:
    • Grabación en haz de iones (IBE)
    • Grabación de iones reactivos profundos (DRIE)
    • Grabación de iones reactivos (RIE)
  • Revestimiento:
    • Evaporación del haz de electrones
    • Dispersión por pulverización magnética
    • Deposición química de vapor a baja presión (LPCVD)
    • Deposición química de vapor reforzada por plasma (PECVD)
    • Deposición de la capa atómica (ALD)
  • Enlace:
    • Enlace anódico
    • Enlace eutético
    • Enlace adhesivo
    • Enlace de alambre
  • El adelgazamiento, el corte y la perforación:
    • Mejora y adelgazamiento de precisión
    • Cortar y cortar
    • Perforación por láser

Equipo de última generación

Nuestras instalaciones están equipadas con maquinaria de apoyo avanzada, incluyendoMáquinas de moler,Máquinas para adelgazar,Máquinas para pulir, yLas sierras para cortar, garantizando los más altos estándares de precisión y eficiencia durante todo el proceso de fabricación.

Ya sea que esté desarrollando dispositivos MEMS de vanguardia, sistemas microfluídicos o transductores especializados, nuestro equipo se compromete a ofrecer una calidad, fiabilidad y soporte técnico excepcionales.Asociarse con nosotros para dar vida a sus diseños innovadores con experiencia inigualable y capacidades de última generación.

 

Quiere saber más detalles sobre este producto
No input file specified. Litografía, grabado, recubrimiento y unión para obleas piezoeléctricas personalizadas ¿podría enviarme más detalles como tipo, tamaño, cantidad, material, etc.?
¡Gracias!
Esperando su respuesta.